Tại triển lãm CSEAC 2026, các nhà sản xuất Trung Quốc đã công bố bước tiến trong công nghệ khắc và quang khắc, nhưng vẫn gặp khó khăn ở mảng thiết bị cấy ion và đo lường với tỷ lệ nội địa hóa dưới 15%.
Huiran Microelectronics vừa giới thiệu dòng thiết bị đo kích thước tới hạn (CD-SEM) 14/22nm và nền tảng AI-EBI, đánh dấu bước tiến quan trọng trong việc nội địa hóa các thiết bị kiểm soát chất lượng chip vốn được ví như 'tiểu quang khắc'.
Lovart vừa chính thức trình làng phiên bản dành riêng cho thị trường nội địa, tích hợp thêm plugin thu thập cảm hứng và bổ sung 100 kỹ năng chuyên nghiệp, giúp tối ưu hóa quy trình làm việc cho các nhà thiết kế.